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磨抛机金相试样抛光机
产品简介

磨抛机金相试样抛光机:
GYMP-2 型金相试样磨抛机为双盘台式机,左盘用于研磨,右盘用于抛光,可以两人同时操作使用。

产品型号:GYMP-2
更新时间:2026-02-27
厂商性质:代理商
访问量:167
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磨抛机金相试样抛光机:

GYMP-2型金相试样磨抛机是面向材料检测、科研教学与工业质量控制的双盘台式制样设备,

以双盘独立控制、调速精准灵活、运行稳定可靠为核心优势,可高效完成金属、合金

、陶瓷等各类试样的粗磨、精磨、粗抛至精抛全流程制备,为金相显微观测、硬度测试、

成分分析提供高质量试样,满足实验室标准化、高效率、高重复性的制样需求。

设备采用双盘独立驱动设计,两个磨抛盘可分别设置转速与转向,支持研磨与抛光同步作业

,大幅提升批量制样效率。标配φ230mm磨抛盘,兼容多种规格砂纸与抛光织物,更换便捷,

可一站式完成多道制样工序,无需频繁转接试样。转速调节兼顾灵活性与便捷性,支持100–1400r/min无级调速,

同时配备300r/min、600r/min、900r/min、1400r/min四级常用定速,一键切换即可适配不同材料与工艺要求,正反转功能可满足特殊材料制样需求。

机身采用ABS环保材料一体成形,搭配稳固支撑底盘,运行平稳、振动小、

噪音低,主轴采用防漏设计,有效保护轴承,延长设备使用寿命。设备配备水冷喷淋系统与集污盘清洗功能,

磨抛过程中持续对试样冷却,避免过热导致金相组织改变,同时及时冲走磨屑,防止磨削物累积沉淀,

保持盘面洁净,减少划痕、变形层等缺陷,提升制样合格率。外形尺寸紧凑,适配各类实验室台面,

安装与维护简便,日常清洁便捷,适配长期高频使用。

GYMP-2型以稳定可靠与高实用性为突出特点,单片机控制系统确保参数精准稳定,操作人员可快速上手,

相同参数下制样效果一致性高,有效降低人工操作误差。相较于传统手动制样,

设备可显著提升制样效率,降低劳动强度,制样质量更稳定可控,广泛应用于高校科研、第三方检测、金属加工、汽车零部件、电子材料等领域。

凭借双盘双控的灵活设计、精准的调速控制、完善的冷却防护与稳定的运行性能,

GYMP-2型成为金相制样的优选设备,助力材料检测与质量控制规范化、高效化开展,为科研分析与工业质控提供可靠支撑。

磨抛机金相试样抛光机

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